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納米二氧化硅研磨分散機,納米二氧化硅分散機,納米研磨分散機,納米分散機,二氧化硅分散機,德國納米分散機,納米高速分散機
納米二氧化硅分散在多個(gè)領(lǐng)域都有著(zhù)重要的應用,如:改性樹(shù)脂,改性紡織材料,改性涂料,改性橡膠等等。改性的效果取決于分散的效果,粒徑越小分散越均勻,分散效果就越好。SGN研磨分散機*的結構,全新的技術(shù),專(zhuān)業(yè)應對于納米級物料的分散,先研磨后分散,避免團聚,分散效果好。
對于納米的物料分散一直是人們關(guān)注的熱點(diǎn),納米分散存在著(zhù)難以解決的問(wèn)題,納米物料分散到流體物質(zhì)當中容易形成二級團聚體,導致物料粒徑變大,難以分散。面對這種情況,SGN研發(fā)出新型設備-研磨分散機,應對納米物質(zhì)的分散問(wèn)題。并有著(zhù)廣泛的實(shí)例,如納米級白炭黑的分散,納米級石墨烯的分散,都在使用SGN研磨分散機進(jìn)行分散處理,*。
GMD2000系列研磨分散設備是SGN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)。
納米研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以前的經(jīng)驗工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應用。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿(mǎn)足預期的應用。
納米二氧化硅研磨分散機的特點(diǎn):
① 線(xiàn)速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說(shuō)的濕磨。
② 定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。
SGN納米研磨分散機設備選型表:
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線(xiàn)速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類(lèi)型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
GMD 2000/4 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD 2000/5 | 1000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD 2000/10 | 3000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD 2000/20 | 8000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD 2000/30 | 20000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 60000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調節到zui大允許量的10%。 |
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